U prucessu di gas speciale usatu in u prucessu di fabricazione TFT-LCD prucessu di deposizione CVD: silane (S1H4), ammonia (NH3), phosphorne (pH3), risate (N2O), NF3, etc., è in più di u prucessu di prucessu High purity l'idrogenu è u nitrogenu d'alta purezza è altri gasi grossi.U gas Argon hè utilizatu in u prucessu di sputtering, è u gasu di film sputtering hè u materiale principale di sputtering.Prima, u gasu di furmazione di film ùn pò micca esse reagitu chimicamente cù u mira, è u gasu più adattatu hè un gas inerte.Una grande quantità di gas speciale serà ancu aduprata in u prucessu di incisione, è u gasu speciale elettronicu hè soprattuttu inflammable è splusivu, è u gasu altamente tossicu, cusì i requisiti per a strada di gas sò alti.Wofly Technology hè specializatu in u disignu è l'installazione di sistemi di trasportu di purezza ultra alta.
I gasi spiciali sò principarmenti usati in l'industria LCD per i prucessi di furmazione è di siccazione di film.U display di cristalli liquidi hà una larga varietà di classificazione, induve u TFT-LCD hè veloce, a qualità di l'imaghjini hè alta, è u costu hè ridutta gradualmente, è a tecnulugia LCD più usata hè attualmente aduprata.U prucessu di fabricazione di u pannellu TFT-LCD pò esse divisu in trè fasi maiò: l'array frontale, u prucessu di boxing orientatu à u mediu (CELL), è un prucessu di assemblea di moduli post-stage.U gasu speciale elettronicu hè appiicatu principarmenti à a furmazione di film è a tappa di siccazione di u prucessu di array precedente, è un filmu SiNX non metallicu è una porta, fonte, drenaje è ITO sò dipositati, rispettivamente, è un film metallicu cum'è un cancellu. fonte, drainandITO.
Tempu di post: 13-Jan-2022